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Technical articles

技術文章

20256-25

烤膠機的應用與操作規范
烤膠機是一種是一種設計為準確控溫、準確計時、高熱均勻性的高性能實驗室設備，可實現定時控溫烤膠操作，主要用于半導體硅片，載玻片，晶片，基片，ITO導電玻璃等工藝的制版的表面涂覆后薄膜烘干、固化。烤膠機的應用領域：1、半導體制造：用于前烘、堅膜...
20256-24

等離子去膠機的原理基于等離子體的物理和化學作用
等離子去膠機是一種利用低溫等離子體技術去除半導體、微電子、光電等領域中光刻膠殘留的設備，其原理基于等離子體的物理和化學作用，能夠高效、環保地去除有機污染物，廣泛應用于芯片制造、封裝測試等工藝環節。氣體電離：在真空腔體內，通過射頻(RF)電源...
20256-5

RIE反應離子刻蝕機的應用貫穿了整個微納制造領域
在芯片制造、傳感器開發或微機電系統(MEMS)生產中，材料的微米甚至納米級加工是決定產品性能的關鍵。RIE反應離子刻蝕機傳感器表面的微結構需要準確到微米級厚度，它通過物理轟擊與化學反應的協同作用，成為半導體和微納制造領域的核心技術工具。RI...
20255-23

關于等離子表面處理儀，三分鐘您就懂
等離子表面處理儀是一種在材料表面改性領域發揮著關鍵作用的設備，它利用等離子體這一特殊的物質形態，對材料表面進行準確的處理，從而改善材料的表面性能，滿足不同行業對材料性能的多樣化需求。等離子體是一種由帶電粒子(如離子、電子)和中性粒子(如原子...
20254-26

RIE反應離子刻蝕機的日常維護
RIE反應離子刻蝕機是在真空系統中利用分子氣體等離子來進行刻蝕的，利用了離子誘導化學反應來實現各向異性刻蝕，即是利用離子能量來使被刻蝕層的表面形成容易刻蝕的損傷層和促進化學反應，同時離子還可清除表面生成物以露出清潔的刻蝕表面的作用。RIE反...
20254-11

紫外臭氧清洗機采用了一種非接觸式的清洗方式
紫外臭氧清洗機的工作原理基于紫外線(UV)與臭氧(O2)的協同作用。紫外線照射能夠激發空氣中的氧氣分子(O2)，使其分解為氧原子(O)，隨后這些氧原子與周圍的氧氣分子結合，生成臭氧。臭氧作為一種強氧化劑，能夠迅速與材料表面的有機污染物發生化...

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華儀行（北京）科技有限公司

企業歷程:◆2006年，在美國加州洛杉磯注冊成立賽福國際集團有限公司（CIFInternationalGroupCo.,Ltd）。成立之初是一家面向大學科研院所銷售儀器設備的供應商。◆2008年，自主研發生產石墨電熱板以來，先后研發生產酸蒸逆流清洗器、酸純化器、智能消解儀等理化實驗儀器設備，從此走上研發生產專業化道路。◆2010年，掌握了等離子核心技術，自主研發生產科研型等離子清洗機系列產品。◆2014年，在中國注冊成立華儀行（北京）科技有限公司，正式進入中國市場，部分儀器設備研發、制造業務移至...

華儀行（北京）科技有限公司

地址：北京市豐臺區科興路7號國際企業孵化中心301室

郵箱：cif_lab@163.com

傳真：86-010-63752028

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